硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng),芯片hmds烘箱用于芯片、晶圓、硅片等半導(dǎo)體在光刻前對(duì)wafer進(jìn)行預(yù)處理,在高溫高真空的狀態(tài)下均勻噴灑霧狀“oap”藥液并在氮?dú)獗Wo(hù)下烘干以增強(qiáng)wafer的光刻性能。通過對(duì)烤箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds,降低了hmds處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2024-10-30